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出口给我们。”

    ??然后叹了口气，“没办法，我们只能从零开始，联合长春光机、徕卡、华为等联合研发，现在搞定了duv浸润式的物镜系统，至于euv的，恐怕需要很长一段时间。”

    ??“那这期间，复芯、中芯的晶圆代工，有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大？”

    ??郑韩皱了皱眉。

    ??“肯定会，但好在情况并不糟糕。”

    ??陆飞笑道：“虽然5nm是目前我们的极限，理论上而言，台积电、英特尔、三星这些有euv光刻机的，制程工艺甚至可以冲击到1nm，但得到的回报并不会太高。”

    ??不少领导感到奇怪，“为什么这么说？制程工艺难道不是越先进越好嘛？”

    ??“理论上是这样，但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势，搭载5nm芯片的手机体验，未必就不如3nm，就会让3nm及以下工艺陷入一种尴尬的地步，飙升的成本却只得到微弱的性能提升。”

    ??陆飞嘿然一笑，“反倒是28nm、14nm和7nm这三个节点的工艺才是市场主流，特别是我们国内绝大部份的芯片需求，所以有了国产的duv浸润式光刻机，基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子，也能保证支撑到我们研发出euv光刻机的那一天。”

    ??众人两两相望，相视一笑。

    ??确实，28nm是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。

    ??除了对功耗要求比较高的cpu、gpu、ai芯片外，其余的工业级芯片用的都是28nm以上的技术，比如电视、空调、汽车、高铁、火箭、卫星、工业机器人、电梯、医疗设备、智能手环、无人机……

    ??但现在，7nm，甚至不计任何代价，极限可以推到5nm，简直是绰绰有余。

    ??“你们在资金上、政策上、人才上，或者在其他方面，有没有什么需要我们解决的？”

    ??沙领导慈眉善目。

    ??陆飞也不客气，立马张口。

    ??一个敢提，一个敢接。

    ??“我还有个提议，希望领导们能支持。”

    ??“说。”

    ??“是这样，逻辑这些年一直跟水木大学开展了比较另类的秘密项目，那就是研究直接跳过光刻机，建立光刻厂和光刻车间。”

    ??“光刻厂和光刻车间？！”

    ??沙领导、郑韩等人或多或少感到惊讶。

    ??“对，安装和调试一台duv光刻机需要至少一年的时间。”陆飞一本正经说，“而如果直接造光刻厂，把光刻机的整个供应链连接起来，就可以摆脱以往单台光刻机的生产模式，转为流水线生产，根据不同的精度需求，大规模生产各类精度的光刻机，就能把光刻机，甚至芯片价格打下去，你们觉得怎么样？”

    ??“嘶～”

    ??现场技术领域的领导立刻窃窃私语起来。

    ??“多条路，就多种选择，大胆去试，放手去干，我们永远是你们的坚实后盾。”

    ??沙领导拍了下陆飞的肩膀。

    ??“是，领导！”

    ??陆飞语气里夹着一丝兴奋。

    ??“《科技日报》最近总结了35项制约我们制造工业的卡脖子技术，不知道你有没有看到？”沙领导往工厂外走去。

    ??“看了。”陆飞立刻跟上。

    ??“有什么感想？”沙领导追问。

    ??“看上去是35项，但实际情况并不对，有很多项目已经被逻辑攻克了，